真空炉用グラファイト発熱体

グラファイト発熱体は、金属、ガラス、その他の高融点材料を溶かす工業炉でよく使用されます。
化学反応において、反応速度を促進したり、反応選択性を向上させるために高温環境を提供するために使用されます。
科学者は、特に高温での材料の特性を研究するために、実験を行う際にグラファイト加熱素子をよく使用します。
半導体製造では、アニーリングや焼結などのプロセスでグラファイト加熱素子が使用されます。
焼入れ、均質化、焼鈍などの熱処理プロセスに使用できます。

グラファイトは優れた熱伝導性を持ち、熱を素早く均一に伝達できるため、加熱効率が向上します。グラファイトは高温でも化学的に安定しており、酸化や腐食の影響を受けにくいため、さまざまな化学環境での使用に適しています。
グラファイト発熱体は極めて高い温度に耐えることができ、3000 度を超えることもよくあります。これは高温用途では重要です。
高温でも高い耐摩耗性を維持するため、長期使用や高強度の用途に非常に有利です。
グラファイト加熱要素は、加熱領域の形状、サイズ、設計など、特定のニーズに合わせてカスタマイズできます。

他の発熱体と比較すると、グラファイト発熱体は金属発熱体よりも高温に対する耐性が高く、化学的に安定していますが、金属発熱体は一般に安価で、低温用途に適しています。
セラミック発熱体は、一部の用途では利点がありますが、一般的にグラファイトの高温性能に耐えることができず、場合によっては割れが発生しやすくなる可能性があります。
グラファイト加熱素子は、抵抗加熱素子よりも極度に高い温度および高電力の用途に適していますが、抵抗加熱素子は低温で制御しやすいです。